한국진공학회 23회 학술발표회(2002. 6. 27-6. 28.)에 논문 2편 발표
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작성자 AT시스템
작성일10-01-08 17:29
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LG 전자기술원과 공동으로 연구한 TCP(Transformer Coupled Plasma)를 이용한
실리카 플라즈마 화학증착 장비 및 공정에 관한 내용을 포함한 논문과 한국과학기술원과 공동으로
고주파스퍼터링 공정을 이용하여 제작된 PZT 박막의 특성에 관한 내용의 논문이 발표된다.
TCP 플라즈마화학증착 장비를 이용하여 250nm/min 이상의 증착속도로 제작된
실리카 박막의 두께 균일도는 1.3%이하, 굴절율 균일도는 0.03% 이하로 조절됨으로써
광도파로용 실리카 박막 제조공정에 성공적으로 적용되는 것으로 나타났다.
고주파스퍼터링 공정으로 제작된 PZT 박막에 있어서는
주로 박막의 배향성, 잔류분극 및 항전 특성 등의 기초연구 자료가 발표될 예정이다.
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